特許
J-GLOBAL ID:200903021868441952
NOx量低減方法およびそれ用の触媒材料の製造
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小田島 平吉
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-532499
公開番号(公開出願番号):特表平11-504258
出願日: 1996年03月15日
公開日(公表日): 1999年04月20日
要約:
【要約】ガス流れに存在している気体状窒素酸化物を還元種と反応させることでその量を低くする方法の実施を、触媒種、例えば白金族金属などを触媒有効量で含有しかつ還元剤貯蔵材料、例えばゼオライトなどを還元種(NOxと反応させるための)を貯蔵するに有効な量で含有する触媒材料に該ガス流れを希薄NOx還元条件下で接触させて流しそしてこのガス流れに還元剤を間欠的に供給することで行う。この触媒材料は如何なる様式で製造されてもよいが、1つの方法は、モレキュラーシーブ材料の孔の中に白金が入り込まないようにする目的でテンプレートを含有させたモレキュラーシーブ材料、好適にはZSM-5に白金を触媒有効量で添加した後に該モレキュラーシーブ材料の焼成を行うことによって該テンプレートを該モレキュラーシーブ材料から該白金添加後に除去する方法である。別の方法は、ブロッキング剤をモレキュラーシーブ材料に添加し続いてそれに白金を添加した後に該材料の焼成を行って該ブロッキング剤を除去する方法である。この触媒材料に含有させる白金量はゼオライト+白金の約2重量パーセント以下、例えば約0.5重量%以下、または約0.025重量%から0.1重量%もしくは0.2重量%であってもよい。
請求項(抜粋):
ガス流れに存在している気体状窒素酸化物を還元種と反応させることでその量を低くする方法であって、触媒種を含んでいてこれが還元剤貯蔵材料の中に触媒有効量で組み込まれている触媒材料に該ガス流れを希薄NOx還元条件下で接触させて流しそしてこのガス流れに還元剤を間欠的に供給することを含む方法。
IPC (2件):
B01D 53/94
, B01J 29/44 ZAB
FI (2件):
B01D 53/36 102 A
, B01J 29/44 ZAB A
引用特許: