特許

J-GLOBAL ID：200903021874530282

高純度酸素及び水素の製造装置

発明者： 佐々木 隆 ,  原田 宙幸
出願人/特許権者： 神鋼パンテツク株式会社 ,  三菱商事株式会社
代理人 (1件)： 金丸 章一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-085186
公開番号（公開出願番号）：特開平5-287570
出願日： 1992年04月07日
公開日（公表日）： 1993年11月02日
要約：

【要約】【構成】 純水製造手段により製造された純水中のガスを脱気する膜脱気モジュール4等の如き脱気手段と、該脱気手段により脱気処理された純水を膜電解する固体高分子電解質水電解セル5と、該水電解セル5の陽極から発生する酸素及び陰極から発生する水素を個別に除湿するモレキュラーシーブス6A,6B,6C,6D 等の如き除湿手段とを有することを特徴とする高純度酸素及び水素の製造装置。【効果】 上記電解セル5での膜電解により、不純物としては微量の水分を含むだけの高純度の酸素及び水素が発生し、そのため、これらを除湿手段により除湿するだけで電子工業等の技術分野において必要な高純度の酸素及び水素が得られるようになる。従って、純化処理対象の不純物の種類が極めて少なく、純化処理としては除湿処理でよく、純化処理の大幅な簡便化を果たし得るようになる。

請求項（抜粋）：

純水中のガスを脱気する脱気手段と、該脱気手段により脱気処理された純水を膜電解する固体高分子電解質水電解セルと、該水電解セルの陽極から発生する酸素及び陰極から発生する水素を個別に除湿する除湿手段とを有することを特徴とする高純度酸素及び水素の製造装置。

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特公昭61-034515
  
• 特公昭61-034515
  
• 特開平3-002237