露光装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：阪本善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-094510
公開番号（公開出願番号）：特開平7-326574
出願日： 1995年03月28日
公開日（公表日）： 1995年12月12日
要約：

【要約】【目的】アパーチャの開口の遮光部の端縁によってアライメント光が乱反射されたり回折を起こすのを防ぎ、アライメント精度を向上させる。【構成】 X線L1 はアパーチャ1の開口1aを通ったものがマスクM1 を経てウエハW1 に照射され、マスクM1 の回路パターンP1 とアライメントマークAe をウエハW1 に転写する。アパーチャ1とマスクM1 の離間距離Eを以下の値eより大きくすることでアパーチャ1の開口1aの周縁すなわち遮光部の端縁1bによってアライメント光F1 が乱反射されるのを防ぐ。e=(f+m)/2(tanθ+tanγ)θ:X線L1 の光軸とアライメント光F1 の光軸のなす角度、f:アライメント光F1 がアパーチャ1を透過するときのビーム幅、γ:X線L1 の必要部分の発散角の最大値、m:アライメントマークAe の幅。

請求項（抜粋）：

露光光の必要部分を除く残りを遮光する開口手段と、前記露光光によって基板に転写される転写パターンとアライメントマークを備えたマスクを有し、前記開口手段が前記基板と前記マスクの位置合わせのためアライメント光を透過させるように構成されており、かつ、前記開口手段と前記マスクの離間距離Eが以下の関係を満足することを特徴とする露光装置。E≧(f+m)/2(tanθ+tanγ)ここで、θ:露光光の光軸とアライメント光の光軸のなす角度f:アライメント光が開口手段を透過するときのビーム幅γ:露光光の必要部分の発散角の最大値m:アライメントマークの幅

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 503 , G03F 7/20 521

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