特許
J-GLOBAL ID:200903021880384581

研磨用組成物及び使用方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  小林 良博 ,  西山 雅也
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-509307
公開番号(公開出願番号):特表2006-523385
出願日: 2004年03月26日
公開日(公表日): 2006年10月12日
要約:
本発明は一般的に、接着材料を除去し、表面を研磨する化学機械研磨のための組成物及び方法に関する。一つの態様では、この方法は、コア-シェル粒子を含んで成る改良された媒体を用いる。この媒体をマイクロエレクトロニクスデバイスの製造に適用することができる。
請求項(抜粋):
表面から材料を除去するための研磨方法であって、該方法は、前記表面に粒状媒体を擦ることによって適用することを含んで成り、 該粒状媒体が、高分子コアが無機粒子シェルで接着被覆されているコア-シェル構造を有する粒子を含み、 該コア-シェル粒子が、無機粒子を有する液滴を表面に形成し、続いて該液滴を固化させて、該無機粒子が埋め込まれている固形粒子を形成することにより作られていることを特徴とする。
IPC (3件):
H01L 21/304 ,  C09K 3/14 ,  B24B 37/00
FI (4件):
H01L21/304 622D ,  C09K3/14 550D ,  C09K3/14 550Z ,  B24B37/00 H
Fターム (7件):
3C058AA07 ,  3C058CB03 ,  3C058CB04 ,  3C058CB10 ,  3C058DA02 ,  3C058DA12 ,  3C058DA17

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