特許
J-GLOBAL ID：200903021887898254
ポジ型レジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西川 繁明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-210360
公開番号（公開出願番号）：特開2000-029208
出願日： 1998年07月08日
公開日（公表日）： 2000年01月28日
要約：
【要約】【課題】 感度、解像度、パターン形状、及び耐熱性が高度にバランスしたポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 アルカリ可溶性フェノール樹脂(A)、4芳香環骨格のポリヒドロキシ化合物のキノンジアジドスルホン酸エステル(B)、及び2芳香環骨格のポリヒドロキシ化合物のキノンジアジドスルホン酸エステル(C)を含有するポジ型レジスト組成物。
請求項（抜粋）：
アルカリ可溶性フェノール樹脂(A)、式(I)【化1】〔式中、k:1または2である。m:1または2である。R1 〜R5 :それぞれ独立に、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基、またはアシル基であるが、これらのうちの少なくとも1つは水酸基である。R6 〜R9 :それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基、またはアシル基である。R10〜R14:それぞれ独立に、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基、またはアシル基であるが、これらのうちの少なくとも1つは水酸基である。X:単結合、-O-、-S-、-SO-、-SO2-、-CO-、-CO2-、アルキレン、シクロペンチリデン、シクロヘキシリデン、フェニレン、【化2】(式中、R15及びR16は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、または置換アリール基である。)、【化3】(式中、R17〜R20は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基であり、nは、0または1〜5の整数である。)、または【化4】(式中、R21〜R24は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基である。)である。〕で表される4芳香環骨格のポリヒドロキシ化合物のキノンジアジドスルホン酸エステル(B)、及び式(II)【化5】〔式中、R25〜R34:それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基、またはアシル基であるが、これらのうちの少なくとも4つは水酸基である。Y:単結合、-O-、-S-、-SO-、-SO2-、-CO-、-CO2-、アルキレン、または【化6】(式中、R35及びR36は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基である。)である。〕で表される2芳香環骨格のポリヒドロキシ化合物のキノンジアジドスルホン酸エステル(C)を含有するポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/022 601
, G03F 7/023 511
, H01L 21/027
G03F 7/022 601
, G03F 7/023 511
, H01L 21/30 502 R
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AA10
, 2H025AB16
, 2H025AC01
, 2H025AD03
, 2H025BE01
, 2H025CB28
, 2H025CB52
, 2H025FA01
, 2H025FA12
, 2H025FA17
