特許

J-GLOBAL ID：200903021909684598

液体の浄化方法および液体の浄化装置

発明者： 林 佑 二 ,  柳 田 博 明 ,  山 内 五 郎 ,  入 江 寛 治
出願人/特許権者： 大同特殊鋼株式会社 ,  財団法人ファインセラミックスセンター ,  山内 五郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-373649
公開番号（公開出願番号）：特開2001-187390
出願日： 1999年12月28日
公開日（公表日）： 2001年07月10日
要約：

【要約】【課題】 プラズマ作用と光触媒作用との相乗的作用により、液体の浄化効率をより一層高めることが可能である液体の浄化装置を提供する。【解決手段】 光触媒層13Cが形成された一方の電極13と、これに対向する他方の電極12を有し、これら対向電極12,13の間でプラズマPを生じさせると共にプラズマP中に浄化原料ガスを送給してプラズマ化する浄化原料ガス送給流路15を備え、プラズマP中に浄化原料ガスを送給して流し、酸素や水を含む浄化原料ガスのプラズマ化により化学励起させてオゾンやOHラジカルを生成すると共にプラズマの発光に起因する光により光触媒反応を効率良く進行させて浄化原料ガス中の酸素や水からのオゾン生成やOHラジカル生成を促進し、オゾンやOHラジカルを浄化用ガス送給流路16を介し汚染液体中に流してその浄化を効率良く行う液体の浄化装置1。

請求項（抜粋）：

少なくとも一方を光触媒処理した電極の間でプラズマを生じさせ、前記プラズマ中に酸素や水を含む浄化原料ガスを流し、前記酸素や水を前記浄化原料ガスのプラズマ化により化学励起させてオゾンやOHラジカルを生成すると共に、前記プラズマの発光に起因する光により光触媒反応を効率良く進行させて前記浄化原料ガス中の酸素や水からのオゾン生成やOHラジカル生成を促進し、前記オゾンやOHラジカルを汚染液体中に流してその浄化を行うことを特徴とする液体の浄化方法。

IPC (6件)：

C02F 1/72 ,  B01J 19/08 ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02 ,  C01B 13/11 ,  C02F 1/78

FI (8件)：

C02F 1/72 Z ,  B01J 19/08 H ,  B01J 21/06 M ,  B01J 35/02 J ,  C01B 13/11 J ,  C01B 13/11 G ,  C01B 13/11 D ,  C02F 1/78

Fターム (32件)：

4D050AA04 ,  4D050AA10 ,  4D050AB04 ,  4D050AB06 ,  4D050BB02 ,  4D050BD04 ,  4G042CA01 ,  4G042CB01 ,  4G042CC03 ,  4G042CC20 ,  4G042CC21 ,  4G042CE01 ,  4G069AA03 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069CA05 ,  4G069CA10 ,  4G069CA11 ,  4G069DA06 ,  4G069EA06 ,  4G075AA13 ,  4G075AA37 ,  4G075BA04 ,  4G075BA05 ,  4G075BA06 ,  4G075CA32 ,  4G075CA47 ,  4G075CA54 ,  4G075DA01 ,  4G075EB21 ,  4G075EB41

引用特許：

審査官引用 (1件)

• プラズマ化学反応装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-122672   出願人：株式会社東芝