特許

J-GLOBAL ID：200903021909902579

クロム微粒子の生成方法、フォトマスクの製造方法及びフォトマスクの修正方法

発明者： 高橋 眞澄 ,  宮原 温 ,  佐藤 博保
出願人/特許権者： 富士通株式会社 ,  富士通ヴィエルエスアイ株式会社
代理人 (1件)： 北野 好人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-132350
公開番号（公開出願番号）：特開平11-323410
出願日： 1998年05月14日
公開日（公表日）： 1999年11月26日
要約：

【要約】【課題】 真空系装置を用いることなく容易にフォトマスクの遮光膜を形成することができるクロム微粒子の生成方法を提供する。【解決手段】 2価のクロムイオンを含む溶液にレーザ光を照射し、還元により1価のクロムイオンを生成するレーザ光照射工程と、前記1価のクロムイオンを集合させて、クロム微粒子を生成する熟成工程とを有している。

請求項（抜粋）：

2価のクロムイオンを含む溶液にレーザ光を照射し、還元により1価のクロムイオンを生成するレーザ光照射工程と、前記1価のクロムイオンを集合させて、クロム微粒子を生成する熟成工程とを有することを特徴とするクロム微粒子の生成方法。

IPC (4件)：

B22F 9/02 ,  B01J 19/12 ,  B22F 9/24 ,  G03F 1/08

FI (5件)：

B22F 9/02 Z ,  B01J 19/12 H ,  B01J 19/12 B ,  B22F 9/24 C ,  G03F 1/08 L