特許

J-GLOBAL ID：200903021923810806

薄膜形成装置

発明者： ▼きょう▲ 建 ,  張 鋼
出願人/特許権者： 株式会社オプトラン
代理人 (1件)： 稲葉 良幸 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-307840
公開番号（公開出願番号）：特開2002-115054
出願日： 2000年10月06日
公開日（公表日）： 2002年04月19日
要約：

【要約】【課題】 信号光を効率よく受光するとともに、受光位置を任意に設定でき、かつ構造が単純で安価に構成できる受光光学系を備えた膜厚測定装置を有する薄膜形成装置を提供する。【解決手段】 受光光学系4を、真空成膜室2内に光入射端が配置されて光出射端が真空成膜室の外にあって信号処理装置3に接続された光ファイバ装置41を有するもので構成し、その真空シール部5を、真空隔壁2aに設けられた貫通孔の内周壁と光ファイバ装置41との間の間隙、並びに、光ファイバ装置の長手方向に直交する切断面において光ファイバ装置の各構成要素どうしの間に形成される間隙を、接着剤52で完全に満たすようにした。

請求項（抜粋）：

真空成膜室内において被成膜体上に薄膜を形成する成膜装置と、前記被成膜体上に形成される薄膜の膜厚を光学的方法によって測定するための膜厚測定装置とを有する薄膜形成装置において、前記膜厚測定装置は、前記薄膜に光を照射する光照射光学系と、この光照射光学系を通じて照射された光が前記薄膜を透過又は反射して生じた信号光を受光して外部に導く受光光学系と、外部に導かれた信号光を処理して膜厚に対応する物理量を算出する信号処理装置とを有し、前記受光光学系は、前記真空成膜室内に光入射端が配置されているとともに、光出射端が前記真空成膜室の外にあって前記信号処理装置に接続された光ファイバ装置を有し、前記光ファイバ装置は、前記真空成膜室の内外を隔てる真空隔壁に設けられた貫通孔に設けられた真空シール部を通して前記真空成膜室の内外に延長されたものであることを特徴とする薄膜形成装置。

IPC (4件)：

C23C 14/54 ,  C23C 14/48 ,  G02B 5/28 ,  H01J 37/317

FI (4件)：

C23C 14/54 E ,  C23C 14/48 D ,  G02B 5/28 ,  H01J 37/317 E

Fターム (15件)：

2H048GA07 ,  2H048GA09 ,  2H048GA13 ,  2H048GA33 ,  2H048GA60 ,  2H048GA62 ,  4K029AA09 ,  4K029BB02 ,  4K029BC00 ,  4K029BD00 ,  4K029CA10 ,  4K029DB21 ,  4K029EA01 ,  5C034CC01 ,  5C034CC07