プラズマ処理シ-トの製造装置および方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-030414
公開番号（公開出願番号）：特開2000-044706
出願日： 1999年02月08日
公開日（公表日）： 2000年02月15日
要約：

【要約】【課題】放電の広がりを抑えつつ投入電力を増大して、処理強度の増大、生産速度の向上を達成する。【解決手段】走行するシートにプラズマ処理を施す放電電極に比誘電率が少なくとも10の誘電体が被覆されていることを特徴とするプラズマ処理シートの製造装置、および製造方法。

請求項（抜粋）：

走行するシートにプラズマ処理を施す放電電極に比誘電率が少なくとも10の誘電体が被覆されていることを特徴とする、プラズマ処理シートの製造装置。

IPC (8件)：

C08J 7/00 306 , C08J 7/00 CFG , B01J 19/08 , B29C 71/04 , C08K 3/18 , C08L 79/08 , B29K 79:00 , B29L 7:00

FI (6件)：

C08J 7/00 306 , C08J 7/00 CFG , B01J 19/08 E , B29C 71/04 , C08K 3/18 , C08L 79/08 Z

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