特許

J-GLOBAL ID：200903021924337322

光学系の検査方法、光学系の製造方法及び露光装置の製造方法

発明者： 田中 一政 ,  牛田 一雄 ,  塚越 敏雄
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-163496
公開番号（公開出願番号）：特開平11-352012
出願日： 1998年06月11日
公開日（公表日）： 1999年12月24日
要約：

【要約】【目的】本発明は、露光装置等の光学装置が実際に設置及び使用される環境条件とは異なる環境条件下でも投影光学系等の光学系の結像性能を、装置が設置及び使用される環境条件と同じになるように調整及び評価でき得る光学系の検査方法、その検査方法を用いた光学系及び露光装置の製造方法を提供する。【構成】所定の波長を持つ光を光学系へ導く導光工程と、前記光学系の調整場所での環境条件と前記光学系の使用場所での環境条件の差異に基づき前記光学系に入射する前記光の波長を調整する波長調整工程とを有する光学系の検査方法。

請求項（抜粋）：

光学系の光学性能が検査される第1環境条件と前記光学系が使用される第2環境条件との差異に基づき、前記光学系の光学性能を検査するための検査光の波長を調整する波長調整工程と、前記波長調整工程によって調整された波長を持つ検査光を用いて前記光学系の光学性能を検査する検査工程を有することを特徴とする光学系の検査方法。

IPC (4件)：

G01M 11/00 ,  G02B 7/08 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G01M 11/00 T ,  G02B 7/08 C ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 516 A