凹版印刷版の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石川泰男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-226207
公開番号（公開出願番号）：特開平6-075365
出願日： 1992年08月25日
公開日（公表日）： 1994年03月18日
要約：

【要約】【目的】微細な凹部を高い精度で効率よく形成することのできる凹版印刷版の製造方法を提供する。【構成】シリコンを含有した薄い第2フォトレジスト層に所定パターンのフォトマスクを介して紫外線を照射し露光・現像して第1フォトレジスト層および基板をエッチングするためのマスクを形成し、第1フォトレジスト層を上記のマスクを介して酸素のリアクティブイオンビームによりエッチングし、さらに、基板を上記マスクを介して酸素以外のリアクティブイオンビームによりエッチングして凹部を形成する。

請求項（抜粋）：

基板表面に第1フォトレジスト層を形成し、該第1フォトレジスト層上にシリコンを含有した薄い第2フォトレジスト層を形成し、この基板に所定パターンのフォトマスクを介して紫外線を照射して前記第2フォトレジスト層を露光・現像して前記第2フォトレジスト層からなるマスクを形成し、次に、前記基板を真空チャンバー内に載置して前記マスク面に酸素のリアクティブイオンビームを照射して前記第1フォトレジスト層の前記マスク非存在部分をエッチングし、その後、前記マスク面にイオンビームを照射して前記基板の前記マスクおよび前記第1フォトレジスト層非形成部分をエッチングして前記基板に凹部を形成することを特徴とする凹版印刷版の製造方法。

IPC (5件)：

G03F 7/00 505 , C23F 4/02 , G03F 7/26 , H01L 21/302 , H01L 29/784

引用特許：

出願人引用 (4件)

特開昭58-009323
特開昭64-049037
特開平3-050719

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審査官引用 (7件)

特開昭58-009323
特開昭58-009323
特開昭64-049037

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