特許
J-GLOBAL ID:200903021944748795
高純度ナフトールAS顔料
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (6件):
川口 義雄
, 小野 誠
, 渡邉 千尋
, 金山 賢教
, 大崎 勝真
, 坪倉 道明
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-508754
公開番号(公開出願番号):特表2007-533802
出願日: 2005年04月06日
公開日(公表日): 2007年11月22日
要約:
式(IV)のナフトールAS顔料は、下記の上限(表参照)によって規定される二次成分(1)から(5)の最大含有量を有する。
請求項(抜粋):
それぞれ、高速液体クロマトグラフィーによって決定された、下記の上限値によって定義される、下記の特定の二次成分(1)から(5)の最大含有量:
IPC (4件):
C09B 29/20
, C09B 67/54
, C09D 7/12
, G03G 9/09
FI (5件):
C09B29/20 B
, C09B67/54 A
, C09B67/54 Z
, C09D7/12
, G03G9/08 361
Fターム (5件):
2H005CA21
, 2H005CA28
, 2H005EA07
, 4J038JA15
, 4J038KA08
引用特許:
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