半導体製造装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：伊東哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-240256
公開番号（公開出願番号）：特開平5-055103
出願日： 1991年08月28日
公開日（公表日）： 1993年03月05日
要約：

【要約】【目的】多数の動作パラメータに従って動作する半導体製造装置において、マスク工程やロット工程の切換時間の短縮を図り、もってスループットの向上を図る。【構成】多数の動作パラメータが格納されているファイル24から当該半導体製造装置が動作するために必要な動作パラメータをロードされるメモリを少なくとも2つ設定し、かつあるロットを処理するための動作パラメータを第1のメモリ27にロードし、第1のメモリにロードされた動作パラメータに従って当該装置の製造動作が実行されている間に次ロットを処理するための動作パラメータを第2のメモリ28にロードするロード手段を設ける。

請求項（抜粋）：

多数の動作パラメータに従って動作する半導体製造装置であって、該半導体製造装置が所定の製造動作を実行するために必要な動作パラメータをそれぞれ記憶可能な少なくとも2つのメモリと、前記多数の動作パラメータの複数ロット分が格納されているファイルから、あるロットを処理するための動作パラメータを一のメモリにロードし、該一のメモリにロードされた動作パラメータに従って前記製造動作が実行されている間に次ロットを処理するための動作パラメータを他のメモリにロードするロード手段とを具備することを特徴とする半導体製造装置。

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭62-277725
特開昭60-182727

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