特許

J-GLOBAL ID：200903021955246155

レジスト用剥離液組成物

発明者： 脇屋 和正 ,  小林 政一 ,  田辺 将人 ,  中山 寿昌
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 洋子 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-166835
公開番号（公開出願番号）：特開平8-334905
出願日： 1995年06月08日
公開日（公表日）： 1996年12月17日
要約：

【要約】【目的】 より過酷な条件のドライエッチング、アッシング、イオン注入等の処理により形成された変質膜の剥離性に優れ、Al、Cu、TiまたはW等の金属膜の形成された基板の腐食防止効果に優れるとともに、従来のレジスト用剥離液と同等の低粘度性を有し、さらに、剥離処理時の水分の蒸発を抑えた剥離寿命の長いレジスト用剥離液組成物を提供する。【構成】 (a)N,N-ジエチルヒドロキシルアミン2〜30重量%、(b)ヒドロキシルアミン2〜40重量%、(c)水溶性有機溶媒10〜80重量%、(d)防食剤1〜20重量%、および(e)水2〜30重量%からなる、レジスト用剥離液組成物。

請求項（抜粋）：

(a)N,N-ジエチルヒドロキシルアミン2〜30重量%、(b)ヒドロキシルアミン2〜40重量%、(c)水溶性有機溶媒10〜80重量%、(d)防食剤1〜20重量%、および(e)水2〜30重量%からなる、レジスト用剥離液組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/30 572 B