特許
J-GLOBAL ID:200903021966301646
スプレーノズル
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
青山 葆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-135264
公開番号(公開出願番号):特開平5-329402
出願日: 1992年05月27日
公開日(公表日): 1993年12月14日
要約:
【要約】【目的】 スプレーノズルを並設して噴霧範囲をラップさせた場合に、ラップ部の流量、打力をラップしていない部分と均等化し、かつ、噴霧流量を変えても噴霧パターンが変動しないようにする。【構成】ノズル本体の中心軸線に沿って気液混合液流路となる主孔を設け、該主孔の円弧形状とした下孔部をノズル本体の噴射側端面に近接して形成し、該噴射側端面より直径方向の切り込みを上記下孔部と連通させて設けて、中央部の巾が狭く左右外周側に向かって巾が広くなると共に左右両端を円弧状としたオリフィスを形成すると共に、該オリフィスの左右両端に連続して外周側に向かって巾の広がるガイド凹部を形成し、かつ、オリフィスの中央部の前後両側に、主孔に連通した副孔を設けている。
請求項(抜粋):
ノズル本体の中心軸線に沿って気液混合液流路となる主孔を設け、該主孔の先端の円弧形状とした下孔部をノズル本体の噴射側端面に近接して形成し、該噴射側端面より直径方向の切り込みを上記下孔部と連通させて設けて、中央部の巾が狭く左右外周側に向かって巾が広くなると共に左右両端を円弧状としたオリフィスを形成すると共に、該オリフィスの左右両端に連続して外周側に向かって巾の広がるガイド凹部を形成し、かつ、オリフィスの中央部の前後両側に、主孔に連通した副孔を設けていることを特徴とするスプレーノズル。
IPC (3件):
B05B 1/14
, B05B 1/02
, B22D 11/124
引用特許:
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