特許
J-GLOBAL ID：200903021972760881
ドライ・エッチング終点監視方法およびそのための装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
合田 潔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-073862
公開番号（公開出願番号）：特開平8-274082
出願日： 1996年03月28日
公開日（公表日）： 1996年10月18日
要約：
【要約】【課題】 基板上に形成された誘電フィルム(公称厚Eと屈折率Nを有する)を含む構造を所与の厚さまで低減するドライ・エッチングにおいて、所望のエッチ終点を検出するための方法および装置を提供する。【解決手段】 構造は、のぞき窓が設けられたエッチング装置の処理室内に置かれる。光源から、4×N×e(ただし、eは厚さの誤差である)より大きい少なくとも2種類の波長を含む光を直角入射角で前記構造に照射する。反射した光は、各波長に調整された分光計に印加され、基本信号が生成される。所定の遅延後、各波長ごとに、基本信号の指定の極値が検出され、次に所定の数の極値がカウントされ、最後の極値に達したときに停止する。前記最後の極値と前記所与の厚さとの間の距離D及びエッチング速度ERからエッチング処理の残りの時間dt(dt=D/ER)が求められる。
請求項（抜粋）：
基板上に形成した誘電フィルムを有する構造をエッチングし、プロセス変動による公称厚Eと屈折率Nの誤差がどのようなものであっても、前記誘電フィルムの所与の厚さEfに達すると前記エッチングを自動的に終了することのできるエッチング・システムにおいて、(a)のぞき窓を有し、エッチ処理のために前記構造を受け入れるエッチ処理室と、(b)4×N×e(ただし、eは厚さの誤差である)に等しい最小値より大きい少なくとも2種類の波長を含む光を発生する光源手段と、(c)前記のぞき窓からほぼ直角入射角で前記のぞき窓を介して前記構造の表面を照射するために前記光源手段からの光を移送し、前記構造から反射した光を集める光学手段と、(d)前記光学手段に接続されて、各々の前記波長について、反応時間につれて変動する前記反射した光の強度に対応するアナログ干渉信号に変換する分光計手段と、(e)信号処理/分析手段とを含み、前記信号処理/分析手段は、前記アナログ信号からディジタル基本信号を生成するために前記アナログ干渉信号をディジタル化する手段と、エッチング・プロセスが始まってから所定の時間軽視周期または評価時間後に、前記基本信号の指定の極値を定義する、前記基本信号の分析を開始する手段と、前記指定の極値から所与の厚さEfが達成される直前の前記基本信号の最後の極値までの極値の数をカウントする手段と、前記基本信号の前記最後の極値と前記所与の厚さとの間の距離を決定する手段と、前記基本信号によってエッチング速度を現場ならびにオンラインで測定する手段と、前記波長のどちらが前記誘電フィルムの組成に最も適合しているかを識別するために前記基本信号の波形の対称性と前記エッチング速度の変動を分析し、対応する基本信号/波長の組合せを選択する手段と、前記選択された基本信号について残りの時間を決定する手段と、前記残りの時間が経過したときに前記エッチングを終了する手段とを含むことを特徴とする、システム。
IPC (3件)：
H01L 21/3065
, C23F 4/00
, G01B 11/06
H01L 21/302 E
, C23F 4/00 F
, G01B 11/06 G
