特許

J-GLOBAL ID：200903021983607392

非線形光学素子の製造方法

発明者： 世良 美穂 ,  遠藤 浩幸
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-313321
公開番号（公開出願番号）：特開平7-168221
出願日： 1993年12月14日
公開日（公表日）： 1995年07月04日
要約：

【要約】【目的】 融解温度で、分解や変質しやすい材料を含む全ての非線形性を示す化合物の単結晶を高純度に育成する。【構成】 本発明は化合物を多結晶あるいは非晶質化した後に融点より低い温度で熱処理することにより単結晶を育成する非線形光学素子の育成方法である。このうち、熱処理については温度勾配中で静止、あるいは温度勾配中を移動させる事によって行うことが好ましく、融点より低い温度としては材料の相転移温度等が考えられる。さらに、多結晶あるいは非晶質の形成法としては溶融法・気相法・溶液法のうち、材料によっていずれかの最適な方法を選択できる。

請求項（抜粋）：

非線形光学素子を製造する際に、非線形光学材料の多結晶或いは非晶質を形成した後に融点より低温で熱処理することによって単結晶を形成することを特徴とする非線形光学素子の製造方法。

IPC (4件)：

G02F 1/35 503 ,  C30B 1/02 ,  C30B 1/06 ,  C30B 29/54

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-349200
  
• 特開昭58-088200
  
• 特開平2-259605