特許
J-GLOBAL ID:200903021995412937

工程管理方法および工程管理システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 佐野 静夫 ,  山田 茂樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-139663
公開番号(公開出願番号):特開2007-311581
出願日: 2006年05月19日
公開日(公表日): 2007年11月29日
要約:
【課題】高い確度で歩留り低下の原因を特定することが可能な工程管理方法を提供する。【解決手段】この工程管理方法は、製造装置6ごとに処理履歴情報を収集するステップと、製造装置6ごとに収集された処理履歴情報に基づいて、ウェハを処理する際のプロセスパラメータを算出するステップと、歩留りを算出するための検査情報を収集するステップと、プロセスパラメータおよび検査情報を用いて分析を行うことにより、歩留りへの寄与度が大きいプロセスパラメータを判別するステップとを備える。【選択図】図4
請求項(抜粋):
少なくとも1つの製造装置をそれぞれ含む複数の製造工程で処理されることにより製造される製品の製造工程を管理する工程管理方法であって、 前記製造装置ごとに処理履歴情報を収集するステップと、 前記製造装置ごとに収集された前記処理履歴情報に基づいて、前記製品を処理する際のプロセスパラメータを算出するステップと、 歩留りを算出するための検査情報を収集するステップと、 前記プロセスパラメータおよび前記検査情報を用いて分析を行うことにより、歩留りへの寄与度が大きいプロセスパラメータを判別するステップとを備えることを特徴とする工程管理方法。
IPC (2件):
H01L 21/02 ,  H01L 21/66
FI (2件):
H01L21/02 Z ,  H01L21/66 Z
Fターム (4件):
4M106AA01 ,  4M106BA01 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ38
引用特許:
出願人引用 (1件)

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