特許
J-GLOBAL ID：200903021997593386
レーザアニール装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松隈 秀盛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-224205
公開番号（公開出願番号）：特開平5-062924
出願日： 1991年09月04日
公開日（公表日）： 1993年03月12日
要約：
【要約】【目的】 エキシマレーザを用いたレーザアニール装置において、大面積の領域を一括してアニールできるようにする。【構成】 対称物2にレーザ光を照射するレーザアニール装置において、レーザ光源となる複数のエキシマレーザ発振器11A,11Bを用い、夫々のエキシマレーザ発振器11A,11Bを同期させて発振し、夫々のエキシマレーザ発振器11A及び11Bからのレーザ光13及び14を同一領域に同時に照射させるようになす。
請求項（抜粋）：
対象物にレーザ光を照射するレーザアニール装置において、複数のエキシマレーザ光源を有し、前記エキシマレーザ光源を同期させて該各エキシマレーザ光源からのレーザ光を同一領域に照射させるようにしたレーザアニール装置。
IPC (3件)：
H01L 21/268
, H01L 21/20
, H01L 21/265
