特許

J-GLOBAL ID：200903022016272271

半導体超微粒子の製造方法および組成物

発明者： 高原 茂 ,  成瀬 功 ,  林 豊治 ,  八尾 浩史
出願人/特許権者： 三井東圧化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-181157
公開番号（公開出願番号）：特開平5-024826
出願日： 1991年07月22日
公開日（公表日）： 1993年02月02日
要約：

【要約】【構成】 カルコゲン化物半導体超微粒子を非水溶媒中で、その安定剤化存在下において、反応温度を制御して製造する方法、ならびにそれによって製造されるカルコゲン化物半導体超微粒子分散溶液より、溶媒を除去することにより得られる超微粒子/ポリマー組成物。【効果】 カルコゲン化物超微粒子の粒径分布が反応温度によって、任意に制御された半導体超微粒子およびその超微粒子/ポリマー組成物が得られる。

請求項（抜粋）：

非水溶媒中に、カルコゲン化物半導体超微粒子原料と製造されるカルコゲン化物半導体超微粒子の安定化剤を共存させ、反応温度を制御することによって、製造されるカルコゲン化物半導体超微粒子の粒径の粒径分布を任意に制御する半導体超粒子の製造方法。

IPC (5件)：

C01G 1/12 ,  C01B 19/04 ,  G02F 1/35 503 ,  C09K 11/56 CPA ,  H01L 33/00

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭61-091005
  
• 特開昭61-010008