特許

J-GLOBAL ID：200903022023546883

電子線用転写マスクに形成されたパターンの欠陥修正法

発明者： 清水 澄人
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-271737
公開番号（公開出願番号）：特開2001-093823
出願日： 1999年09月27日
公開日（公表日）： 2001年04月06日
要約：

【要約】【目的】電子線照射により、修正部近傍が変化しない電子線用転写マスクの欠陥修正法を提供する。【解決手段】パターンが形成されたメンブレンを備えた電子線用転写マスクのパターンの欠陥部分を修正する工程と、前記修正部の近傍に存在する未反応物の除去又は未反応部分の結合を促進するための処理を行う工程と、を備えた電子線用転写マスクに形成されたパターンの欠陥修正法。

請求項（抜粋）：

パターンが形成されたメンブレンを備えた電子線用転写マスクのパターンの欠陥部分を修正する工程と、前記修正部の近傍に存在する未反応物の除去又は未反応部分の結合を促進するための処理を行う工程と、を備えた電子線用転写マスクに形成されたパターンの欠陥修正法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16

FI (2件)：

G03F 1/16 B ,  H01L 21/30 541 S

Fターム (8件)：

2H095BA08 ,  2H095BB30 ,  2H095BD32 ,  2H095BD33 ,  2H095BD36 ,  5F056DA23 ,  5F056DA30 ,  5F056FA05