特許

J-GLOBAL ID：200903022031125560

レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： 野崎 耕司 ,  武智 敏 ,  開元 裕子
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 青木 朗 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-156818
公開番号（公開出願番号）：特開平5-346668
出願日： 1992年06月16日
公開日（公表日）： 1993年12月27日
要約：

【要約】【目的】 放射線感光材料に関し、高感度で且つドライエッチング耐性が高く、露光放射線に対して透明な化学増幅型レジスト組成物を提供する。【構成】 本発明のレジスト組成物は、アクリル酸又はメタクリル酸3-オキソシクロヘキシル単量体単位【化1】を繰返し単位の一つとして含む共重合体と、酸発生剤とを含んでなる。

請求項（抜粋）：

下記一般式で表されるアクリル酸又はメタクリル酸3-オキソシクロヘキシル単量体を繰返し単位の一つとして含むことを特徴とする共重合体。【化1】

IPC (4件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/027 501 ,  H01L 21/027