特許
J-GLOBAL ID：200903022032107833
ダイヤモンドの表面処理方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
池内 寛幸 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-202839
公開番号（公開出願番号）：特開平6-048893
出願日： 1992年07月30日
公開日（公表日）： 1994年02月22日
要約：
【要約】【目的】 ダイヤモンドがグラファイトに変化することの少ない、ダイヤモンドの高度の清浄表面の形成を可能とするダイヤモンドの表面処理方法を提供する。【構成】 Si基板上にマイクロ波CVDによって形成された非晶質カーボン成分により表面が被覆されているダイヤモンド薄膜1をポンプ4により10-5Torr以下の真空に保たれた真空容器2内のホルダー3上に設置し、エキシマレーザ6から308nmの波長の紫外光7をレンズ8により集光し、紫外線透過窓5を通ってダイヤモンド薄膜1に400mJ/shotで、10shots/秒のサイクルで100shots(10秒)、照射密度は1J/cm2 で照射する。
請求項（抜粋）：
表面に少なくとも酸素が吸着されているか、あるいは、表面が非晶質カーボンまたはグラファイトで被覆されている不純物成分を表面に有するダイヤモンドに紫外領域の光を照射することを特徴とするダイヤモンドの表面処理方法。
IPC (2件)：
引用特許：
前のページに戻る
