特許

J-GLOBAL ID：200903022033951018

干渉装置

発明者： 神谷 誠一
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-011918
公開番号（公開出願番号）：特開平11-194011
出願日： 1998年01月05日
公開日（公表日）： 1999年07月21日
要約：

【要約】【課題】 光学部品の形状や屈折率分布を干渉計用いて高精度に測定することができる干渉装置を得ること。【解決手段】被測定物の光波面情報を含む測定光波と参照光波の干渉光波を検出して、被測定物の光波面情報の位相分布を測定する干渉装置において、予め検出済みのバックグラウンド成分を干渉光波から除去すること。

請求項（抜粋）：

被測定物の光波面情報を含む測定光波と参照光波の干渉光波を検出して、被測定物の光波面情報の位相分布を測定する干渉装置において、予め検出済みのバックグラウンド成分を干渉光波から除去することを特徴とする干渉装置。

IPC (5件)：

G01B 11/00 ,  G01B 9/02 ,  G01B 11/24 ,  G01M 11/00 ,  G01N 21/45

FI (5件)：

G01B 11/00 G ,  G01B 9/02 ,  G01B 11/24 D ,  G01M 11/00 L ,  G01N 21/45 A