パターン形成用支持体、ペースト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：西澤均
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-137732
公開番号（公開出願番号）：特開2002-333719
出願日： 2001年05月08日
公開日（公表日）： 2002年11月22日
要約：

【要約】【課題】均一で、形状精度及び寸法精度が高く、膜厚の大きいパターンを形成することを可能にする。【解決手段】ペースト組成物を用いて所定のパターンを形成した後、形成されたパターンを被転写体上に転写することによりパターンを形成するのに用いられるパターン形成用支持体の、ペースト組成物に対する接触角を30度以上とする。また、本願発明のパターン形成用支持体上にパターンを形成するのに用いられるペースト組成物として、乾燥温度において、ずり速度4s-1における粘度が30Pa・s以上のものを用いる。

請求項（抜粋）：

ペースト組成物を用いて所定のパターンを支持体上に形成する工程と、前記支持体上に形成された前記パターンを被転写体上に転写する工程を具備する形成方法に使用される支持体であって、ペースト組成物に対する接触角が30度以上になるように表面処理が施されていることを特徴とするパターン形成用支持体。

IPC (5件)：

G03F 7/11 503 , G03F 7/40 521 , H05K 3/12 610 , H05K 3/20 , H05K 3/46

FI (6件)：

G03F 7/11 503 , G03F 7/40 521 , H05K 3/12 610 G , H05K 3/20 C , H05K 3/46 H , H05K 3/46 T

Fターム (35件)：

2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB15 , 2H025AC01 , 2H025AD01 , 2H025BJ06 , 2H025DA33 , 2H025FA29 , 2H025FA35 , 2H096AA26 , 2H096BA05 , 2H096CA05 , 2H096HA07 , 2H096HA30 , 5E343AA23 , 5E343BB24 , 5E343BB72 , 5E343BB76 , 5E343DD02 , 5E343DD03 , 5E343DD56 , 5E343DD62 , 5E343DD76 , 5E343EE42 , 5E343EE52 , 5E343EE58 , 5E343GG08 , 5E346AA15 , 5E346AA32 , 5E346CC16 , 5E346CC32 , 5E346DD13 , 5E346DD44 , 5E346EE21 , 5E346HH26

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