特許

J-GLOBAL ID：200903022044551933

電子線描画装置

発明者： 宮田 正順 ,  安藤 宏純 ,  冨吉 力生
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立計測エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 高田 幸彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-193149
公開番号（公開出願番号）：特開平10-041211
出願日： 1996年07月23日
公開日（公表日）： 1998年02月13日
要約：

【要約】【課題】本発明の目的は描画異常が発生したときの試料上の位置を特定することができる電子線描画装置を提供することにある。【解決手段】主偏向制御偏向部5からのデ-タにもとづき主偏向手段38を用いてフイ-ルド内のサブフイ-ルド中心に成形電子ビ-ムを偏向して固定し、そのサブフイ-ルド内を、副偏向制御部6からのショットデ-タにもとづき副偏向手段37を用いて成形電子ビ-ムで描画する。サブフィールド内の描画に要した時間と予め設定された描画しきい時間とを比較することによってサブフィールド内の描画の異常を検出する。異常が検出された場合は、その事実を電子線描画装置の表示装置などを利用して装置使用者に知らせる。

請求項（抜粋）：

試料を電子ビ-ムで照射する手段と、その電子ビ-ムの偏向及びオン/オフにもとづいて前記試料に所望のパタ-ンの描画を行う手段とを含む電子線描画装置において、前記描画の過程において前記試料上の予め定められた描画領域毎の描画時間を計測し、該計測された描画時間を予め設定された描画しきい時間と比較し、その結果にもとづいて前記予め定められた描画領域毎の描画異常の有無を判定する手段を備えていることを特徴とする電子線描画装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/305

FI (4件)：

H01L 21/30 541 U ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 Z