特許

J-GLOBAL ID：200903022053286665

感光性組成物

発明者： 内藤 卓哉 ,  木原 尚子 ,  斎藤 聡 ,  中瀬 真
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-011929
公開番号（公開出願番号）：特開平9-204045
出願日： 1996年01月26日
公開日（公表日）： 1997年08月05日
要約：

【要約】【課題】 レジストパターンをエッチングマスクとして用い、酸性溶液でエッチングする際に、レジストパターンと遮光膜等のエッチング対象部材との間のエッチング液の浸入を防止し、超微細パターンの形成の精度を向上させる感光性組成物を提供する。【解決手段】 アルカリ可溶性樹脂、酸によって分解又は架橋する置換基を有する化合物、化学放射線の照射によって酸を発生する化合物、及び分子量1000以上の高分子酸を含有する感光性組成物である。前記高分子酸の酸解離定数は、アルカリ可溶性樹脂の酸解離定数より100倍以上大きいことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂、酸によって分解または架橋する置換基を有する化合物、化学放射線の照射によって酸を発生する化合物、および分子量1000以上の高分子酸を含有し、前記高分子酸の酸解離定数が前記アルカリ可溶性樹脂の酸解離定数より100倍以上大きいことを特徴とする感光性組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/038 505 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/038 505 ,  H01L 21/30 502 R