電子線描画方法および電子線描画装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：磯村雅俊
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-158232
公開番号（公開出願番号）：特開平11-008176
出願日： 1997年06月16日
公開日（公表日）： 1999年01月12日
要約：

【要約】【課題】描画を行なうパターン形状や開口率に応じて、最適な電流密度分布の一括図形ビームを形成し、高速な描画を行なう。【解決手段】電子源1から放出された電子ビーム2は収束レンズ3で収束され第1の開口4で成形された後、第1成形レンズ5と第2成形レンズ7で収束され第2の開口8上に結像される。この第2の開口8上の像は対物レンズ9と対物偏向器10で投影偏向されて、感光剤の塗布された試料11上に照射され描画を行う。このとき、収束レンズ3の収束力を変化させ、電子ビームの電流密度および/または電子ビームの形状を変化させることにより、第2の開口8の形状に応じて最適な電流密度で描画を行なう。

請求項（抜粋）：

電子ビームを放射する電子源と、前記電子ビームの形状を決定するための第1の開口と、特定の機能を持つ1まとまりの形状を複数備えた第2の開口と、前記第2の開口を選択する第1の偏向器と、前記電子ビームを投影する1つ以上の電子レンズとを具備して、前記第1の開口の像を前記第2の開口上に投影し、前記第2の開口の像を前記電磁レンズを用いて試料上に投影して行う電子線描画方法であって、前記第1の開口に照射する前記電子ビームの電流密度または電子ビームの断面形状を、前記第2の開口を選択する毎に、あらかじめ決定された電流密度または形状に変化させて描画を行うことを特徴とする電子線描画方法。

IPC (5件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 504 , G03F 7/20 521 , H01J 37/147 , H01J 37/305

FI (6件)：

H01L 21/30 541 B , G03F 7/20 504 , G03F 7/20 521 , H01J 37/147 C , H01J 37/305 B , H01L 21/30 541 E

引用特許：

審査官引用 (1件)

特開平1-143217

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