特許
J-GLOBAL ID：200903022054794435
位相シフトマスクの修正方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 敏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-302429
公開番号（公開出願番号）：特開平6-138646
出願日： 1992年11月12日
公開日（公表日）： 1994年05月20日
要約：
【要約】【目的】 位相シフトマスクに欠陥部があってもレジストパターンに実質的に影響を与えないマスク修正方法を提供する。【構成】 欠陥部を修正すると、この修正された領域の光の透過率は低下しているので、この領域を通過した透過光の光強度が低下する。このため縮小投影露光装置で位相シフトマスクのマスクパターンをウエハに投影すると、投影光学系の結像位置での光強度分布は、修正された領域に対応する位置での光強度が欠陥部を有しているために修正されなかった領域に対応する光強度(正常時の光強度)よりも小さくなっている。しかし、この発明では、欠陥部16、20従って修正された領域に近接する遮光パターン14に補助開口部19、22を形成するので、この補助開口部を通過した透過光が上述した、修正された領域の透過光の光量低下を補うため、対応する結像位置での光強度は正方常時の光強度へと高められ、従って、設計通りの所定のレジストパターンを形成することが可能となる。
請求項（抜粋）：
マスク基板上に遮光パターンと位相シフタとを具え、これら遮光パターンおよび位相シフタが設けられていない開口部と前記位相シフタとは光の透過領域をそれぞれ形成して成る位相シフトマスクの欠陥部を修正するに当たり、(a)透過領域に存在する欠陥部を修正する工程と、(b)該欠陥部に近接する遮光パターンの一部分を除去して補助開口部を形成する工程とを含むことを特徴とする位相シフトマスクの修正方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 301 W
, H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
