特許
J-GLOBAL ID：200903022065435445
拡大被写界深度光学系
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-266624
公開番号（公開出願番号）：特開2000-098303
出願日： 1998年09月21日
公開日（公表日）： 2000年04月07日
要約：
【要約】【課題】通常の光学系に容易に切り換え可能な拡大被写界深度光学系を提供する。【解決手段】本発明の拡大被写界深度光学系を適用したビデオマイクロスコープは、レンズ1,2,3と位相変調マスク4,5とCCDカメラ6とから成る撮像光学系と、光源装置18とライトガイド7と照明ヘッド8とから成る照明光学系と、CCDカメラ6をコントロールするCCDコントローラ9と、CCDコントローラ9からの画像データを処理する画像処理装置10と、画像処理装置10による処理結果を表示するモニタ11とを有している。位相変調マスク4,5は共に、一方の面が平面で、もう一方の面はz=kx3 (ここにkは定数)で表わされる曲面形状をしている。一方の位相変調マスク5は筒15に固定されているが、もう一方の位相変調マスク4は筒15に対して回転可能に支持されている。
請求項（抜粋）：
物体からのインコヒーレント光を像面上に集光するレンズ系と、前記レンズ系によって像面上に集光された像を撮像する撮像手段と、物体と撮像手段の間に配置される一対の位相変調マスクと、撮像手段で得られる画像データに対して適宜処理を行なう画像処理手段とを有しており、位相変調マスクの各々は、これを透過する光にP(x,y)=exp(jαx3 )(ここにjは虚数単位、αは定数、x,yは位相変調マスク上の二次元座標)の位相変調を与え得る機能を有し、一対の位相変調マスクは、向きが180°異なる位置関係となるようにする配置と向きが90°異なる位置関係となるようにする配置とに切換可能に支持されている拡大被写界深度光学系。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (1件)：
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