特許
J-GLOBAL ID：200903022067300466
メタノールの製造法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-302961
公開番号（公開出願番号）：特開平9-132539
出願日： 1995年11月21日
公開日（公表日）： 1997年05月20日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、活性及び選択性に優れた触媒の存在下で、一酸化炭素及び/又は二酸化炭素と水素とを原料としてメタノールを製造する方法を提供することを課題とする。【解決手段】 本発明の課題は、一般式(M<SB>x </SB>Cu<SB>y </SB>)<SB>7 </SB>O<SB>z </SB>A<SB>w </SB>で表されるランタノイド化合物含有銅酸化物(式中、MはDy、Ho、Er、Tb、Tm、Yb及びLuよりなる群から選ばれる少なくとも一種のランタノイド原子を示し、Aはハロゲン原子及び/又はNO<SB>3 </SB>基を示し、x+y=1、0<x/y≦10、6≦z≦8、0.5≦w≦9である)を還元することによって得られる、酸化ランタノイドと還元銅とが混在している酸化ランタノイド含有還元銅の存在下で、一酸化炭素及び/又は二酸化炭素と水素とを反応させることを特徴とするメタノールの製造法によって達成される。
請求項（抜粋）：
一般式(M<SB>x </SB>Cu<SB>y </SB>)<SB>7 </SB>O<SB>z </SB>A<SB>w </SB>で表されるランタノイド化合物含有銅酸化物(式中、MはDy、Ho、Er、Tb、Tm、Yb及びLuよりなる群から選ばれる少なくとも一種のランタノイド原子を示し、Aはハロゲン原子及び/又はNO<SB>3 </SB>基を示し、x+y=1、0<x/y≦10、6≦z≦8、0.5≦w≦9である)を還元することによって得られる、酸化ランタノイドと還元銅とが混在している酸化ランタノイド含有還元銅の存在下で、一酸化炭素及び/又は二酸化炭素と水素とを反応させることを特徴とするメタノールの製造法。
IPC (4件)：
C07C 31/04
, B01J 23/76
, C07C 29/154
, C07B 61/00 300
C07C 31/04
, B01J 23/76 Z
, C07C 29/154
, C07B 61/00 300
