特許
J-GLOBAL ID:200903022072541714

スパッタリング装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-082135
公開番号(公開出願番号):特開平6-293965
出願日: 1993年04月08日
公開日(公表日): 1994年10月21日
要約:
【要約】【目的】 情報記録媒体の基板等のスパッタリング時に、基板の外周部で成膜の縁をはっきりと形成でき、いわゆるマスクボケの生起を確実に防止できるスパッタリング装置を提供することにある。【構成】 スパッタリング時、その中央部でプッシャーに支持された押圧部材が、これの外周部に形成したリング状突起により被処理物の外周部を外周マスク部材に押圧していることを特徴としている。
請求項(抜粋):
被処理物の中心部及び外周部を各々中心マスク部材及び外周マスク部材によりマスキングすると共に、被処理物の中心部をプッシャーにより上記中心マスク部材に押圧して、被処理物のマスキング箇所以外の箇所にスパッタリングにより成膜を施すスパッタリング装置において、スパッタリング時、その中央部でプッシャーに支持された押圧部材が、これの外周部に形成したリング状突起により被処理物の外周部を外周マスク部材に押圧していることを特徴とするスパッタリング装置。
IPC (4件):
C23C 14/34 ,  C23C 14/04 ,  G11B 7/26 ,  G11B 11/10
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開平4-110457
  • スパツタリング装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-240796   出願人:株式会社芝浦製作所

前のページに戻る