特許
J-GLOBAL ID：200903022074289389

プラズマ発生装置およびスペクトル制御方法

発明者：
秋山 秀典

秋山 秀典 について

, 
勝木 淳

勝木 淳 について


出願人/特許権者：
国立大学法人 熊本大学

国立大学法人 熊本大学 について


代理人 (2件)： 藤島 洋一郎 ,  三反崎 泰司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-312739
公開番号（公開出願番号）：特開2006-156359
出願日： 2005年10月27日
公開日（公表日）： 2006年06月15日
要約：
【課題】プラズマ発生に基づく放射光をより効率的に取り出すことが可能なプラズマ発生装置を提供する。【解決手段】コイル6A,6Bによって、初期プラズマP1が生成される以前から、Z軸方向に沿って磁場Bzを印加する。また、磁場調整部7によって、この印加磁場Bzの強度を調整する。プラズマの収縮速度が緩和されると共に、その緩和の度合いが調整可能となる。よって、プラズマの最大収縮持続時間が長くなる度合いも、任意に調整可能となる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
初期プラズマを生成すると共にこの初期プラズマを所定の軸線上に収縮させることにより、収縮プラズマを発生させるプラズマ発生部と、 前記初期プラズマが生成される以前から前記軸線に沿って磁場を印加する磁場印加部と、 前記磁場印加部により印加する磁場の強度を調整する磁場強度調整手段と を備えたことを特徴とするプラズマ発生装置。
IPC (7件)：
H05H 1/16 ,  H05H 1/06 ,  G21K 1/00 ,  G21K 5/02 ,  G21K 7/00 ,  H01L 21/027 ,  H05G 2/00
FI (7件)：
H05H1/16 ,  H05H1/06 ,  G21K1/00 X ,  G21K5/02 X ,  G21K7/00 ,  H01L21/30 531S ,  H05G1/00 K
Fターム (6件)：
4C092AA04 ,  4C092AB12 ,  4C092AC08 ,  4C092AC09 ,  4C092BD20 ,  5F046GC03
引用特許：
審査官引用 (2件)
  • 特開昭62-076790
  • 特開昭62-069451
引用文献：
審査官引用 (1件)

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