特許

J-GLOBAL ID：200903022074791505

超高濃度有機化合物廃液の無希釈浄化法

発明者： 小林 正泰
出願人/特許権者： 有限会社小林環境科学研究所
代理人 (1件)： 清水 猛 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-034969
公開番号（公開出願番号）：特開2001-219191
出願日： 2000年02月14日
公開日（公表日）： 2001年08月14日
要約：

【要約】【課題】 超高濃度有機化合物廃液を希釈水を希釈水を全く使用することなく、コンパクト低コストで放流可能な状態にまで浄化処理することができる浄化法を提供する。【解決手段】 要処理廃液を用い、水を加えてTOC値50,000ppm内外、10,000ppm内外、1,000ppm内外および200ppm内外に調整したものを用意し、順次第1槽から第4槽に光合成細菌培養液と共に入れておき、要処理廃液を第1槽から順次第4槽へ流入させて処理する浄化法。

請求項（抜粋）：

全有機性炭素(TOC)値100,000ppm前後(BOD値として約200.000ppm以上)の超高濃度有機化合物工場廃液を光合成細菌を用いて浄化処理するに当たり、予め前記廃液を用い、水を加えてTOC値50,000ppm内外、10,000ppm内外、1,000ppm内外および200ppm内外に調整したものを用意し、順次第1槽から第4槽に光合成細菌培養液と共に入れておき、前記廃液を第1槽から順次第4槽へ流入させて処理することを特徴する超高濃度有機化合物廃液の無希釈浄化法。

Fターム (3件)：

4D040DD04 ,  4D040DD12 ,  4D040DD14