特許
J-GLOBAL ID：200903022090176586

投射光学系

発明者：
畠山 弘至

畠山 弘至 について

, 
須永 敏弘

須永 敏弘 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (3件)： 岸田 正行 ,  水本 敦也 ,  小花 弘路
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-074658
公開番号（公開出願番号）：特開2004-279988
出願日： 2003年03月18日
公開日（公表日）： 2004年10月07日
要約：
【課題】広画角で、大きな投射角の仕様範囲内において任意の像位置に歪みのない像を得られる、投射角が可変である投射光学系を実現する。【解決手段】複数の光学素子を有し、かつ被投影面とは異なる所定面上に前記画像を結像する性能を有する第1光学ブロックを有し、複数の光学素子のうち少なくとも1つの光学素子を、実質的に第1光学ブロックの射出瞳位置の中心を回転中心にして回転させることによって、投影光学系により投射される前記画像形成素子の像を移動させる及び/又は傾けることを可能とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
複数の光学素子を有し、画像形成素子からの光を被投影面に投影する投影光学系であって、 前記被投影面とは異なる所定面上に前記画像を結像する性能を有する第1光学ブロックを有しており、 前記複数の光学素子のうち少なくとも1つの光学素子を、実質的に前記第1光学ブロックの射出瞳位置の中心を回転中心にして回転させることによって、前記投影光学系により投射される前記画像形成素子の像を移動させる及び/又は傾けることが可能であることを特徴とする投影光学系。
IPC (6件)：
G02B27/18 ,  G02B13/00 ,  G02B17/00 ,  G02B17/08 ,  G03B21/00 ,  G03B21/28
FI (7件)：
G02B27/18 Z ,  G02B13/00 ,  G02B17/00 A ,  G02B17/08 A ,  G03B21/00 E ,  G03B21/00 F ,  G03B21/28
Fターム (29件)：
2H087KA06 ,  2H087KA07 ,  2H087PA06 ,  2H087PA17 ,  2H087PB10 ,  2H087QA03 ,  2H087QA06 ,  2H087QA19 ,  2H087QA21 ,  2H087QA25 ,  2H087QA32 ,  2H087QA42 ,  2H087QA45 ,  2H087RA34 ,  2H087TA01 ,  2H087TA02 ,  2H087TA06 ,  2K103AA05 ,  2K103AA06 ,  2K103AA07 ,  2K103AA16 ,  2K103AB08 ,  2K103BC05 ,  2K103BC47 ,  2K103CA19 ,  2K103CA20 ,  2K103CA26 ,  2K103CA38 ,  2K103CA47
引用特許：
審査官引用 (2件)
  • 投影光学装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-120104   出願人：ミノルタ株式会社
  • 斜め投影光学系
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-118765   出願人：ミノルタ株式会社

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