フォトレジストの乾燥方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小鍜治明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-164040
公開番号（公開出願番号）：特開平8-031725
出願日： 1994年07月15日
公開日（公表日）： 1996年02月02日
要約：

【要約】【目的】本発明は、マイクロ波による誘電加熱で効率よくフォトレジストを乾燥する方法を提供することを目的とする。【構成】均一にマイクロ波を照射するベーク炉により、フォトレジストを塗布した基板にマイクロ波を照射し、フォトレジストの自己発熱によりフォトレジスト中に含まれる溶剤を蒸発、乾燥させる。フォトレジスト自身の発熱を利用するため、微弱なエネルギーで効率よく均一に乾燥することができる。

請求項（抜粋）：

基板上に塗布されたフォトレジストを露光前に乾燥する方法であって、前記フォトレジストが塗布された基板をマイクロ波に晒して加熱することを特徴とするフォトレジストの乾燥方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , F26B 3/347 , F26B 23/08 , G03F 7/38 501

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭57-154831
特開昭62-299037
特開昭57-154831

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