特許

J-GLOBAL ID：200903022094868261

掻取具

発明者： 中谷 徹
出願人/特許権者： サンリツ株式会社
代理人 (1件)： 西山 聞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-160925
公開番号（公開出願番号）：特開2009-000138
出願日： 2007年06月19日
公開日（公表日）： 2009年01月08日
要約：

【課題】狭小隙間の汚れを確実に除去する。【解決手段】可塑性を有する素材により成る線材1に糸2を螺旋状に巻付け、得られた糸巻付線材二本以上を螺旋状に捻じり合わせて形成することによって、糸2を線材1に密着させて、全径を小さく抑える。又、巻付け糸にて螺旋状の狭幅凹凸部を形成し、糸巻付線材にて螺旋状の広幅凹凸部を形成し、これらを交差させると共に、大小の凹凸部を多数混在させることで、被除去物への引っ掛かりを多くし、掻取具合を良好にする。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

可塑性を有する素材により成る線材に糸を螺旋状に巻付け、得られた糸巻付線材二本以上を螺旋状に捻じり合わせて形成したことを特徴とする掻取具。

IPC (2件)：

A47K 7/00 ,  B08B 1/00

FI (2件)：

A47K7/00 105 ,  B08B1/00

Fターム (6件)：

2D034BA00 ,  2D034BA01 ,  2D034BA04 ,  3B116AA46 ,  3B116AB52 ,  3B116BA03

引用特許：

出願人引用 (1件)

• ピアスホールの清掃具
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-212111   出願人：株式会社篠原