特許
J-GLOBAL ID：200903022101136999

液処理装置

発明者：
金子 聡

金子 聡 について

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松本 和久

松本 和久 について

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伊藤 規宏

伊藤 規宏 について

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飽本 正巳

飽本 正巳 について

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戸島 孝之

戸島 孝之 について

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難波 宏光

難波 宏光 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-107726
公開番号（公開出願番号）：特開2007-311776
出願日： 2007年04月17日
公開日（公表日）： 2007年11月29日
要約：
【課題】基板に対する処理液のミストの飛散を抑制することができる液処理装置を提供すること。【解決手段】ウエハWを水平に保持し、ウエハWとともに回転可能なウエハ保持部1と、ウエハ保持部1に保持されたウエハWを囲繞し、ウエハWとともに回転可能な回転カップ3と、回転カップ3およびウエハ保持部1を一体的に回転させるモータ2と、ウエハWの表面に処理液を供給する表面処理液供給ノズル4と、回転カップ3から外部へ排気および排液する排気・排液部6と、表面がウエハ表面と略連続するようにウエハの外側に設けられ、保持部材1および回転カップ3とともに回転し、ウエハ表面に供給されてウエハWから振り切られた処理液をその表面を介して回転カップ3から排気・排液部6へ案内する案内部材35とを具備する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板を水平に保持し、基板とともに回転可能な基板保持部と、 前記基板保持部に保持された基板を囲繞し、基板とともに回転可能な回転カップと、 前記回転カップおよび前記基板保持部を一体的に回転させる回転機構と、 少なくとも基板の表面に処理液を供給する液供給機構と、 前記回転カップから外部へ排気および排液する排気・排液部と、 表面が基板表面と略連続するように基板の外側に設けられ、前記保持部材および前記回転カップとともに回転し、基板表面に供給されて基板から振り切られた処理液をその表面を介して前記回転カップから前記排気・排液部へ案内する案内部材と を具備することを特徴とする液処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 ,  H01L 21/027 ,  B08B 3/02
FI (4件)：
H01L21/304 643A ,  H01L21/30 564C ,  H01L21/30 569C ,  B08B3/02 B
Fターム (22件)：
3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB34 ,  3B201AB42 ,  3B201BB24 ,  3B201BB72 ,  3B201BB92 ,  3B201CD31 ,  5F046JA05 ,  5F046JA06 ,  5F046JA08 ,  5F046LA06 ,  5F046LA07 ,  5F157AA73 ,  5F157AA91 ,  5F157AA93 ,  5F157AB13 ,  5F157AB33 ,  5F157AC13 ,  5F157BB22 ,  5F157CF20 ,  5F157DB51
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (3件)
  • 液処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-325905   出願人：東京エレクトロン株式会社
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-048948   出願人：株式会社東芝
  • 処理装置及び処理方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-081201   出願人：東京エレクトロン株式会社

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