特許
J-GLOBAL ID：200903022113771592
リソグラフィー用ペリクル
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 亮一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-098577
公開番号（公開出願番号）：特開平7-271016
出願日： 1994年05月12日
公開日（公表日）： 1995年10月20日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 本発明は従来公知の非晶質フッ素系ポリマーを単層で構成したペリクル膜に対して、エアーブローなどに対する耐圧性が顕著に向上した非晶質フッ素系ポリマーからなるリソグラフィー用ペリクルの提供を目的とするものである。【構成】 本発明のリソグラフィー用ペリクルは、ペリクル膜を少なくとも2種類の非晶質フッ素系ポリマーの多層膜からなるものとすることを特徴とするものであり、これは引張降伏強度が30MPa以上で初期引張弾性率が 1.4GPa未満である非晶質フッ素ポリマーの膜と、引張降伏強度が30MPa未満で初期引張弾性率が 1.4GPa以上である非晶質フッ素系ポリマーの膜とを交互に重ね合わせ、少なくとも2層以上の多層膜としてなるものである。
請求項（抜粋）：
ペリクル膜を少なくとも2種類の非晶質フッ素系ポリマーの多層膜からなるものとすることを特徴とするリソグラフィー用ペリクル。
IPC (2件)：
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