特許

J-GLOBAL ID：200903022114608768

磁気記録媒体及びその製造方法

発明者： 豊口 卓
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 石田 敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-274958
公開番号（公開出願番号）：特開2000-105916
出願日： 1998年09月29日
公開日（公表日）： 2000年04月11日
要約：

【要約】【課題】 薄膜であるにもかかわらず膜質が良好かつ安定であり、しかもCSS耐久性に優れた保護膜を有する磁気記録媒体を提供すること。【解決手段】 基板上に磁性金属材料からなる磁性記録層及び保護膜を設けてなる磁気記録媒体において、保護膜がプラズマCVD法により形成されたアモルファス水素化カーボン膜からなりかつその膜硬度が、前記基板上に直接膜厚50nmで成膜して微小押し込み試験法によって測定した時、少なくとも15GPaであるように構成する。

請求項（抜粋）：

非磁性の基板上に磁性金属材料からなる磁性記録層及び保護膜を設けてなる磁気記録媒体において、前記保護膜がプラズマCVD法により形成されたアモルファス水素化カーボン膜からなりかつその膜硬度が、前記基板上に直接膜厚50nmで成膜して微小押し込み試験法によって測定した時、少なくとも15GPaであることを特徴とする磁気記録媒体。

IPC (2件)：

G11B 5/72 ,  G11B 5/85

FI (2件)：

G11B 5/72 ,  G11B 5/85 A

Fターム (16件)：

5D006AA02 ,  5D006AA05 ,  5D006CB04 ,  5D006CB07 ,  5D006DA03 ,  5D006EA03 ,  5D006FA02 ,  5D112AA02 ,  5D112AA07 ,  5D112AA24 ,  5D112BA02 ,  5D112BC05 ,  5D112FA10 ,  5D112FB09 ,  5D112FB21 ,  5D112JJ06