特許

J-GLOBAL ID：200903022118874829

高濃度次亜リン酸ニッケル水溶液および無電解ニッケルめっき方法

発明者： 三田 宗雄 ,  堀川 健
出願人/特許権者： 日本化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-229642
公開番号（公開出願番号）：特開2001-049447
出願日： 1999年08月16日
公開日（公表日）： 2001年02月20日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 実用的なレベルまで次亜リン酸ニッケルを含有する高濃度次亜リン酸ニッケル水溶液、およびめっき液寿命が長く、良好なめっき皮膜が得られる無電解ニッケルめっき方法を提供する。【解決手段】 次亜リン酸ニッケル含水塩と錯化剤とを有効成分とする水溶液であって、 次亜リン酸ニッケル含水塩の濃度が、25°Cで22重量%以上であることを特徴とする高濃度次亜リン酸ニッケル水溶液。

請求項（抜粋）：

次亜リン酸ニッケル含水塩と錯化剤とを有効成分とする水溶液であって、 次亜リン酸ニッケル含水塩の濃度が、25°Cの温度で22重量%以上であることを特徴とする高濃度次亜リン酸ニッケル水溶液。

Fターム (7件)：

4K022AA02 ,  4K022BA14 ,  4K022DA01 ,  4K022DB02 ,  4K022DB04 ,  4K022DB07 ,  4K022DB08