特許
J-GLOBAL ID:200903022127137470
耐食性のすぐれた永久磁石の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
押田 良久
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-358195
公開番号(公開出願番号):特開平6-204066
出願日: 1992年12月26日
公開日(公表日): 1994年07月22日
要約:
【要約】【目的】 膜厚にムラがなく、永久磁石表面のチタン化合物被膜が均一に形成され、磁石表面からのガス発生が防止され、真空中でも使用可能とした耐食性のすぐれた永久磁石を得る製造方法の提供。【構成】 イオンプレーティングの前工程として、所定時間加熱保持した後、H2ガスを導入してイオン化し、加熱した永久磁石に負の電荷を印加して磁石表面を清浄化する清浄化することにより、磁石表面に吸着したガスを離脱させ、蒸着物質の磁石表面への拡散や化学反応を促進させ、また表面の酸化層や異物が還元されて清浄化された表面が得られ、被覆するチタン化合物被膜が均一かつ緻密となり、磁石表面からのガス発生が防止される。
請求項(抜粋):
希土類系永久磁石表面にイオンプレーティング法にてチタン系化合物被膜を形成する耐食性のすぐれた永久磁石の製造方法において、有機溶剤で表面洗浄した該永久磁石を、加熱真空雰囲気において、導入したH2ガスをイオン化し、かつ永久磁石に負の電荷を印加して磁石表面を清浄化した後、所要ガス雰囲気または真空雰囲気において、Tiを蒸発あるいはイオン化してイオンプレーティングを行い、永久磁石表面にチタン系化合物を被覆することを特徴とする耐食性のすぐれた永久磁石の製造方法。
IPC (4件):
H01F 41/02
, C23C 14/06
, C23C 14/32
, H01F 1/053
引用特許:
審査官引用 (2件)
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特開昭63-009919
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特開昭57-079169
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