特許
J-GLOBAL ID:200903022134375158
付加物、該付加物の製造方法及び薄膜の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
久保田 千賀志 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-151083
公開番号(公開出願番号):特開平8-003171
出願日: 1995年05月25日
公開日(公表日): 1996年01月09日
要約:
【要約】【目的】 薄膜を蒸着により製造する方法と、該方法に使用する安定化した前駆物質を提供する。【構成】 前駆物質は、M(D)E(Mはアルカリ金属、Cu、Ni、Co、Mn、Znから選ばれる元素のカチオン;Eはクラウンエーテル;Dはジケトンのアニオン)で表される付加物である。該付加物は、金属Mと溶媒中のD,Eとの混合物の生成ステップ;該混合物の還流ステップ;溶媒の除去ステップ;により製造される。薄膜MBOx(Mは第1の金属、Bは第2の金属、xは0より大きい整数)は、M(D)E(Eはエーテル、Dはジケトン)で表される付加物を含む固体のMOCVD装置への導入ステップ;BD′(Bはニオブ、タンタルから選ばれ、D′はジケトン)の該装置への導入ステップ;該固体と該BD′との該装置での昇華による蒸気混合物の生成ステップ;該蒸気混合物の極高温のサセプタへの搬送による上記薄膜の付着ステップ;により製造される。
請求項(抜粋):
式:M(D)E(式中、Mはアルカリ金属、銅、ニッケル、コバルト、マンガン、及び亜鉛から成る群から選択される元素のカチオン;Eはクラウン-エーテル;及びDはジケトンのアニオンである)で表されることを特徴とする付加物。
IPC (8件):
C07F 1/00
, C07D323/00
, C07F 1/02
, C07F 1/06
, C07F 13/00
, C07F 15/04
, C07F 15/06
, C23C 16/40
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