特許
J-GLOBAL ID:200903022136533630

厚膜回路描画装置NCデータ作成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小鍜治 明 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-187373
公開番号(公開出願番号):特開平5-037127
出願日: 1991年07月26日
公開日(公表日): 1993年02月12日
要約:
【要約】【目的】 厚膜回路描画装置(以下描画装置という)のNCデータ作成装置において、描画タクト時間が最短となる描画ノズルの組合せの決定を自動化することにより、作業者の負担の低減と、NCデータ作成工程全体の処理時間の短縮を図る。【構成】 描画装置のNCデータ作成装置において、描画する回路パターンの幅に対するノズル孔の幅やペーストの種類などの工法的な条件をもとに、描画可能なノズルの組合せ候補を優先順位をつけて決定する第1工程11と、実際にそのノズルの組合せが使用する生産手段において採用可能かどうかを優先順に検査する第2工程12と、採用可能な組合せのうち、回路パターンが複数個存在する回路基板全体の生産タクト時間が最短となるノズルの割付けを選択する第3工程13によりNCデータの作成を行う。
請求項(抜粋):
電子回路を描画形成するために複数種の固定幅のノズルを一度に複数個利用できる厚膜回路描画装置のNCデータを作成するデータ作成方法において、描画対象となる長方形形状の回路パターンの幅に対するノズル孔の幅やペーストの種類などの工法的な条件をもとに描画可能なノズルの組合せ候補を優先順位をつけて決定する第1工程と、実際にそのノズルの組合せが使用する生産手段のもとで採用可能かどうか優先順に検査する第2工程と、採用可能な組合せのうち描画形成される回路パターンが複数個存在する回路基板全体の生産タクト時間がもっとも短くなるノズルの割付けを選択する第3工程とからなる厚膜回路描画装置NCデータ作成方法。
IPC (3件):
H05K 3/10 ,  B43L 13/00 ,  G05B 19/403
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開昭61-121401
  • 特開平2-039937
  • 特開平1-145900

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