特許
J-GLOBAL ID:200903022137446323

高分子電解質組成物及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小池 晃 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-262041
公開番号(公開出願番号):特開平10-101873
出願日: 1996年10月02日
公開日(公表日): 1998年04月21日
要約:
【要約】【課題】 ポリスチレン系高分子電解質の経時的安定性を向上させることができる高分子電解質組成物及びその製造方法を提供する。【解決手段】 本発明に係る高分子電解質組成物は、水溶性のポリスチレン系高分子電解質と安定化剤とを含有することを特徴とする。ポリスチレン系高分子電解質と安定化剤とを混合することによって、ポリスチレン系高分子電解質の自動酸化反応を抑制することができるとともにポリスチレン系高分子電解質の経時的な安定性を向上させることができ、分子量が高い、ポリスチレン系高分子電解質が得られる。
請求項(抜粋):
水溶性のポリスチレン系高分子電解質と、安定化剤とを含有することを特徴とする高分子電解質組成物。
IPC (4件):
C08L 25/18 ,  C08F 8/24 ,  C08F 8/36 ,  C08K 5/00
FI (4件):
C08L 25/18 ,  C08F 8/24 ,  C08F 8/36 ,  C08K 5/00
引用特許:
審査官引用 (9件)
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