特許
J-GLOBAL ID:200903022147529430
光学素子の連続製造法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
前島 肇
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-287740
公開番号(公開出願番号):特開平7-120748
出願日: 1993年10月22日
公開日(公表日): 1995年05月12日
要約:
【要約】【目的】 液晶高分子層を安定して転写することができ、液晶高分子の細片による欠陥や歪によるクラック等の問題を生じない光学素子の製造法を提供する。【構成】 配向基板フィルム/液晶高分子層/硬化接着剤層/透光性基板フィルムからなる長尺の積層フィルムの幅方向の両端縁を、液晶高分子層と硬化接着剤層とが重なり合う部分において長手方向に切断した後、配向基板フィルムのみを剥離する。
請求項(抜粋):
長尺の配向基板フィルム上に形成された長尺の液晶高分子層を接着剤を介して長尺の透光性基板フィルム上に転写することにより光学素子を製造するに際し、長尺の配向基板フィルム上に形成された該液晶高分子層と長尺の透光性基板フィルムとを接着剤により接着することにより得られた配向基板フィルム/液晶高分子層/硬化接着剤層/透光性基板フィルムからなる長尺の積層フィルムの幅方向の両端縁を、液晶高分子層と硬化接着剤層とが重なり合う部分において長手方向に切断した後、該配向基板フィルムのみを剥離することを特徴とする光学素子の連続製造法。
IPC (5件):
G02F 1/1335 510
, G02B 5/30
, G02F 1/13 101
, G02F 1/13 500
, G02F 1/1337
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