特許

J-GLOBAL ID：200903022151631621

フォトレジスト用剥離液

発明者： 田口 敏 ,  末次 益実
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-263771
公開番号（公開出願番号）：特開平8-123043
出願日： 1994年10月27日
公開日（公表日）： 1996年05月17日
要約：

【要約】【構成】 基板上に塗布されたフォトレジスト膜を除去するための剥離液であって、下記(A)20〜50重量%、(B)2〜8重量%及び(C)42〜78重量%(ただし、(A)+(B)+(C)=100重量%とする。)からなるフォトレジスト用剥離液。(A):アミノアルコール(B):水(C):グリコールモノアルキルエーテル【効果】 有害な成分を含まず、特殊なリンス液を必要とせず、基板面内の剥離速度が均一であり、かつ高温でポストベークされたフォトレジスト膜やプラズマやイオンに曝されたフォトレジスト膜に対しても優れた剥離性能及び溶解性能を発現し得るフォトレジスト用剥離液を提供することができる。

請求項（抜粋）：

基板上に塗布されたフォトレジスト膜を除去するための剥離液であって、下記(A)20〜50重量%、(B)2〜8重量%及び(C)42〜78重量%(ただし、(A)+(B)+(C)=100重量%とする。)からなるフォトレジスト用剥離液。(A):アミノアルコール(B):水(C):グリコールモノアルキルエーテル

IPC (5件)：

G03F 7/42 ,  C11D 7/60 ,  H01L 21/027 ,  C11D 7:32 ,  C11D 7:26