特許
J-GLOBAL ID：200903022152433173
パタン位置歪の算出方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-026604
公開番号（公開出願番号）：特開平9-218032
出願日： 1996年02月14日
公開日（公表日）： 1997年08月19日
要約：
【要約】【課題】 より簡単に、パタンの位置ずれをシミュレートできるようにすることを目的とする。【解決手段】 抜きパタン32密度により発生するマスクの変形を算出する。すなわち、抜きパタン32の密度に応じ、これが形成されるマスク基板31上の吸収体の膜厚が変化しているとして、マスクの変形を算出する。
請求項（抜粋）：
周辺を支持体で支えられ、X線を良く透過する材料からなるマスク基板と、X線を遮断する吸収体からなり前記基板上に形成されたパタンとから構成されたX線マスクの前記パタン位置の変位状態をシミュレートするパタン位置歪算出方法において、前記パタンの密度分布に対応して前記吸収体の膜厚が分布しているものとして前記パタンの変位状態を算出することを特徴とするパタン位置歪の算出方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01B 15/00 A
, G01B 21/32
