特許

J-GLOBAL ID：200903022154519385

光デイスク原盤及びその作成方法

発明者： 土谷 雅夫
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 田辺 恵基
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-114628
公開番号（公開出願番号）：特開平7-296427
出願日： 1994年04月28日
公開日（公表日）： 1995年11月10日
要約：

【要約】【目的】本発明は、簡易に作成し得る光デイスク原盤及びその作成方法の実現を目的とするものである。【構成】ガラス板上に光硬化型樹脂層を介してフオトレジスト層を形成し、当該フオトレジスト層に信号を記録し、現像することにより光デイスク原盤を作成するようにしたことにより、ガラス板として研磨処理されていないものを使用することができる。従つて大規模な設備や装置を必要とせずに簡易に形成し得る光デイスク原盤及びその作成方法を実現できる。

請求項（抜粋）：

光デイスクを成形するスタンパの金型となる光デイスク原盤において、所定形状のガラス板と、上記ガラス板上に形成された光硬化型樹脂層と、上記光硬化型樹脂層上に形成され、記録された信号に応じた凹凸を表面に有するフオトレジスト層とを具えることを特徴とする光デイスク原盤。