特許

J-GLOBAL ID：200903022155395701

逆浸透膜モジュールの洗浄方法及び装置

発明者： 渡部 道夫 ,  永井 正彦 ,  岩橋 英夫
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 萩原 亮一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-275389
公開番号（公開出願番号）：特開平11-104636
出願日： 1997年10月08日
公開日（公表日）： 1999年04月20日
要約：

【要約】【課題】 逆浸透膜モジュールの圧損上昇の回復のための洗浄方法及び装置に関する。【解決手段】?@加圧した気液二相流により逆浸透膜モジュールの逆洗を行うことを特徴とする逆浸透膜モジュールの洗浄方法及び?A加圧した液体流に加圧した気体を断続的に供給することにより逆浸透膜モジュールの逆洗を行うことを特徴とする逆浸透膜モジュールの洗浄方法。

請求項（抜粋）：

加圧した気液二相流により逆浸透膜モジュールの逆洗を行うことを特徴とする逆浸透膜モジュールの洗浄方法。

IPC (3件)：

C02F 1/44 ,  B01D 61/08 ,  B01D 65/02 520

FI (3件)：

C02F 1/44 G ,  B01D 61/08 ,  B01D 65/02 520

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭53-005077
  
• 特開昭62-266104
  
• 特開昭50-109179